Tööstusautomaatika valdkonnas keskenduvad kasutajad rõhuandurit valides sageli rohkem parameetritele, nagu ulatus, täpsus ja plahvatuskindlus{0}}, jättes tähelepanuta kõige kriitilisema probleemi-meedia ühilduvus. Eriti happelises keskkonnas võib vale membraanimaterjali valimine põhjustada mõõtmiste triivi, lühenenud eluiga või isegi tõsiseid tagajärgi, nagu membraani korrosioon, kandja lekkimine ja ohutusjuhtumid.
Tegelikult ei ole paljud saidil esinevad{0}}probleemid, nagu "rõhuandurid ei kesta", "pundunud membraanid" või "sagedased lekked", mitte toote halvast kvaliteedist, vaid pigem materjalide ja kandja mittevastavusest. Seetõttu validesrõhuanduridhappeliste tingimuste jaoks on sisuliselt materjaliteaduse ja keemilise ühilduvuse küsimus.
Vale valik võib põhjustada diafragma kahjustusi
I. Kuidas valida anorgaanilise happe söödet?
Anorgaanilised happed on sageli tugevalt söövitavad, mõnel neist on tugevad oksüdeerivad omadused, mistõttu on vaja ülimalt -jõudlusega membraanimaterjale.
- Vesinikkloriidhape (HCl)– Tüüpiline tugev söövitav mitte-oksüdeeriv hape, mis kahjustab tugevalt 316L roostevaba terast. Standardsetel roostevabast terasest membraanidel on HCl keskkonnas lühike eluiga. Tööstus üldiselt soovitabTantaalvõiHastelloy C276 (HC276)diafragmad. Tantaal pakub erakordset korrosioonikindlust HCl suhtes ja on sageli esimene valik väga söövitavates tingimustes.
- Väävelhape (H₂SO4)– Selle söövitav toime on keerulisem. Kuigi lahjendatud väävelhape võib tunduda vähem agressiivne, võib nii lahjendatud kui ka kõrgel temperatuuril{1}}kontsentreeritud väävelhape metalle tugevalt korrodeerida. Väävelhappe puhulTantaaldiafragmad on usaldusväärsem valik. Kui on vaja-korrosioonivastast katet,PTFEon üldiselt sobivam kui PFA kontsentreeritud väävelhappes.
- Lämmastikhape (HNO₃)– Tüüpiline tugevalt oksüdeeriv hape. Paljud tavalistele hapetele vastupidavad materjalid korrodeeruvad kiiresti lämmastikhappes. Tööstus tavaliselt soovitabTitaandiafragma, kuna titaan pakub head stabiilsust oksüdeerivate ainete vastu.
- Fosforhape (H3PO4)– Suhteliselt vähem söövitav, kuid valik sõltub kontsentratsioonist ja temperatuurist. Kui kontsentratsioon on alla 10%, on 316L üldiselt piisav. Suuremate kontsentratsioonide või kõrgete temperatuuride korralTantaalon soovitatav, kuna korrosioonikiirus suureneb oluliselt temperatuuri tõustes.
- Vesinikfluoriidhape (HF)– Tunnustatud ohtlik keskkond. See on väga mürgine ja korrodeerib enamikku metalle. Traditsiooniliste lahenduste kasutamineKullakattega monel. Tavalisem lahendus on316L Halar kattega, mis pakub pikaajalist -temperatuurikindlust 150–170 kraadi. Kui negatiivset rõhku pole,Monel PFA kattegaon ka valik.
Muud happed naguvesinikbromiidhape, vesinikjodiidhape, perkloorhape– Väga söövitav, tavaliselt nõutavTantaaldiafragmad. Mõned kasutajad valivad vesinikjodiidhappe jaoks316L PFA kattega. Kui negatiivset rõhku pole, on võimalik lisada PFA korrosioonivastane kate (-pikaajaline temperatuuritaluvus 150–180 kraadi).
II. Kuidas valida orgaanilise happe söödet?
Võrreldes anorgaaniliste hapetega on orgaanilised happed üldiselt vähem söövitavad, kuid kõrge temperatuur ja kontsentratsioon võivad siiski põhjustada märkimisväärset korrosiooni.
- Äädikhape– Lahjendatud äädikhape avaldab 316L-le vähe mõju, seega piisab tavatingimustes 316L-st. Kõrgete temperatuuride või jää-äädikhappe jaoks,Titaanon soovitatav, kuna suure kontsentratsiooniga-äädikhape korrodeerib oluliselt roostevaba terast.
- Sipelghape– Suhteliselt söövitav. Toatemperatuuril on üldiselt kasutatav 316L. Kõrgete temperatuuride jaoks,HC276 või tantaalon soovitatav.
- Oksaalhape, sidrunhape, piimhape– Üldiselt kerge. Toatemperatuuril piisab 316L-st. Kõrgete temperatuuride jaoks,Hastelloy C (HC)on soovitatav pikaajaliseks stabiilsuseks-.
- Üli-tugevad orgaanilised happednagu trifluoroäädikhape, trifluorometaansulfoonhape – standardmetallid ei pea neile pikaajaliselt vastu{0}}, seegaTantaalTavaliselt on soovitatav kasutada diafragmasid.
LEEG pakub rohkem valikulisi protsessiühendusi
MDM7000 seeria membraani tihendrõhuanduridon spetsiaalselt loodud protsessiparameetrite, nagu rõhk, tase, mass, tihedus, liides ja vooluhulk, mõõtmiseks keerulistes ja nõudlikes töötingimustes. Keeruliste rakenduste jaoks, mis hõlmavad kõrge-temperatuuri, kõrge vaakumi, söövitavaid vedelikke, hõljuvaid osakesi, kõrge-viskoossusega keskkonda, kristalliseerumis- või ummistusprotsesse, pakume laia valikut membraani tihendussüsteeme, millel on erinevad konstruktsioonid, membraanimaterjalid ja täitevedelikud. Need paindlikud konfiguratsioonid võimaldavad usaldusväärselt kohaneda erinevate tööstusharude ja protsessinõuetega, tagades -pikaajalise stabiilse ja ohutu mõõtmistulemuse.
Samal ajal toetab LEEG-i kogenud professionaalsete inseneride meeskond, kes hindab iga projekti varajases staadiumis põhjalikult tegelikke töötingimusi, kandja omadusi, paigalduskeskkonda ja protsessi nõudeid. Meie insenerid abistavad kliente membraantihendi valimisel ja lahenduste optimeerimisel, et pakkuda täpsemaid, usaldusväärsemaid ja rakenduspõhisemaid{1}}mõõtmislahendusi. Alates toote konfiguratsioonist kuni välirakendusteni aitame klientidel enesekindlalt ületada keeruliste tööstusprotsesside väljakutsed.
